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北京恒久ICP发射发谱仪ICP8000
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等离子刻蚀ICP
(E-chuck),以便更有效地在刻蚀工艺中让基片保持冷却。该E-chuck使用氦压力控制器,及在基片背面保持一个氦冷却层,从而达到控制基片温度的作用。该设备可选配一个电感耦合等离子(ICP)源,其
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AEfast-1 全自动快速进样系统 ICP/MS
主要特点l 快速:典型应用约35秒/样品(ICP测定17个元素,读数3次),分析效率提高2倍以上。 解决了自动进样器清洗时间长、分析速度慢的问题。l 典型应用下(35秒/样品),交叉污染
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质谱仪 ICP-MS100
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美国热电ICP-MS
高效泵系统可以使用稀释的反应气体,如7% 氢气/氦气混合气H2或1%氨气/氦气混合气用于CCT模块中,而非使用未稀释的氢气H2或氨气以减少腐蚀问题,提高可靠性和安全性。同时型模拟/脉冲检测器
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8800 ICP-MS/MS
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5900 SVDV ICP-OES
全新的 Agilent 5900 SVDV ICP-OES 光谱仪专为希望实现高通量分析并最大程度降低每个样品成本的实验室而设计。SVDV 配置标配有高级阀系统 (AVS 7)、ICP
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美国热电ICP-MS
等离子体状态高稳定性的同位素比 ICP-MS是获得认可的痕量元素分析和定量的高效技术。 其应用范围从半导体工业到地质和环保分析、从生物研究到材料科学。 ICP-MS最严重的限制是元素信号的多原子干扰
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LC-ICP-MS形态分析解决方案LC-ICP-MS联用系统
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钡测定仪
利用窄带滤光技术,产生特定单一波长,在高性能单片计算机控制下,采用比色法测量吸光度,根据朗伯比尔定律,仪器自动计算钡的浓度。 一、产品介绍1、产品原理利用窄带滤光技术,产生特定单一波长,在
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